恩高光学请求耐刮花抗紫外的聚碳酸酯树脂复合涂层资料及其制备办法专利触及高分子资料技术领域

　　金融界2025年8月13日音讯，国家知识产权局信息数据显现，湖北恩高光学科技有限公司请求一项名为“一种耐刮花抗紫外的聚碳酸酯树脂复合涂层资料及其制备办法”的专利，揭露号CN120461973A，请求日期为2025年04月。

　　专利摘要显现，本揭露触及高分子资料技术领域，特别触及一种耐刮花抗紫外的聚碳酸酯树脂复合涂层资料及其制备办法；该复合涂层资料包含：硬化层和抗紫外层；硬化层为以聚碳酸酯为基底，经过聚碳酸酯与聚(3‑羟基丁酸‑co‑3‑羟基戊酸酯)共混制备得到；抗紫外层为包含榜首抗紫外剂的聚氨酯资料；榜首抗紫外剂为掺杂有榜首金属元素的第二金属氧化物纳米粒子，榜首金属元素和第二金属元素均选自稀土元素。

　　天眼查资料显现，湖北恩高光学科技有限公司，成立于2023年，坐落孝感市，是一家以从事橡胶和塑料制品业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。经过天眼查大数据分析，湖北恩高光学科技有限公司参加招投标项目3次，专利信息9条，此外企业还具有行政许可5个。

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